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厚積薄發/打破外國壟斷 填補國產AR產業鏈空白

時間:2024-10-04 05:02:46來源:大公报

  據了解,西湖大學在納米壓印模板技術上的突破,打破了過去丹麥和日本少數幾家公司的技術壟斷,實現了中國高端納米壓印模板從0到1的技術突破,填補了中國AR產業鏈的空白。西湖大學國強講席教授、副校長,慕德微納(杭州)科技有限公司首席科學家仇旻介紹:「我們通過非常短的時間就已經把這一技術的迭代周期從半年縮短到數周,使得我們國內AR產業的發展遠超海外,目前我們已經佔領了國內高端納米壓印模版一半以上的市場份額。」

  「我們團隊有20年多年的微納加工經驗,對微納光學也是有非常強的敏感度的。」西湖大學博士後、慕德微納(杭州)科技有限公司CEO杜凱凱告訴記者,事實上在現在這款產品誕生前,第一次的嘗試是失敗的。

  「當時我們為了充分發揮碳化硅鏡片的性能,我們在結構設計上就花了幾個月的時間。加工階段,在電子束光刻機裏連續跑了一周,導致光刻機都崩潰了。最終我們決定降低對性能的追求,一次解決一個問題,才有了現在的這款產品。」\大公報記者王莉

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